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在計算機領(lǐng)域，CMOS常指保存計算機基本啟動(dòng)信息（如日期、時(shí)間、啟動(dòng)設置等）的芯片。有時(shí)人們會(huì )把CMOS和BIOS混稱(chēng)，其實(shí)CMOS是主板上的一塊可讀寫(xiě)的并行或串行FLASH芯片，是用來(lái)保存BIOS的硬件配置和用戶(hù)對某些參數的設定。

在今日，CMOS制造工藝也被應用于制作數碼影像器材的感光元件，尤其是片幅規格較大的單反數碼相機。

一、設備概述：

威固特公司生產(chǎn)的CMOS“互補金屬氧化物半導體”全自動(dòng)超聲波清洗機，整個(gè)工藝流程使用PLC編程控制，可根據清洗工藝要求，靈活設置動(dòng)作參數。采用全自動(dòng)化運行過(guò)程，用來(lái)清洗CMOS“互補金屬氧化物半導體”效果特別好，溶劑保持潔凈時(shí)間長(cháng)，實(shí)現清洗流程的自動(dòng)化作業(yè)，降低操作人員勞動(dòng)強度，提高設備的生產(chǎn)能力和清洗效果。

二、結構組成：

超聲波清洗系統：采用SUS不銹鋼制作，采用日本技術(shù)超聲換能器、發(fā)生器；

多臂式機械輸送裝置：PLC控制、伺服電機、伺服驅動(dòng)器、減速器、直線(xiàn)導軌、氣缸及其他配置；

過(guò)濾系統不銹鋼過(guò)濾器：水泵、過(guò)濾器、閥門(mén)、管路、過(guò)濾棉芯；

加熱系統：加熱管、液位控制、溫度器及其他配置；

水快進(jìn)快出系統：儲水箱、氣動(dòng)閥、液位控制器、電磁水閥等；

自動(dòng)進(jìn)出料系統：電磁閥、氣缸、導軌及其它配置；

進(jìn)排液管路：全部采用不銹鋼材料制做；

電氣控制裝置：PLC控制、電控材料、數顯觸摸屏；

底盤(pán)機架：不銹鋼材料制作。

三、清洗工藝流程：

自動(dòng)上料→1.超聲波洗劑清洗→2.純水漂洗→3.超聲波漂洗→4.超聲波漂洗→5.超聲波漂洗→超聲波漂洗→自動(dòng)下料。

四、清洗優(yōu)勢：

威固特全自動(dòng)超聲波清洗機被公認為當前效率最高，效果最好的清洗方式，其清洗效率達到百分之九十八以上，清洗潔凈度也達到最高級別，而傳統的手工清洗和有機溶劑清洗的清洗效率僅僅為百分之六十到百分之七十,即使是氣相清洗和高壓水射流清洗的清洗效率也低于百分之九十；因此，CMOS“互補金屬氧化物半導體”全自動(dòng)超聲波清洗機以其效率高、效果好，適用于大工作量清洗的特性無(wú)疑是清洗的最佳選擇，這也是為什么凡是對潔凈度要求高的行業(yè)都會(huì )優(yōu)先選擇威固特超聲波清洗機來(lái)清洗的原因。

五、注意事項：

1、檢查機器是否安裝妥善，將所有的支撐腳旋下，將機器調至水平位置；

2、將所有的電源開(kāi)關(guān)置于“關(guān)”的位置，檢查電源是否合乎要求，機殼接地是否可靠；

3、檢查供水與排水管路連接是否正確；

4、清洗槽內無(wú)清洗液時(shí)，絕對不能啟動(dòng)過(guò)濾，否則會(huì )損壞水泵；

5、槽內無(wú)清洗液時(shí)，絕對禁止加熱，否則會(huì )損壞發(fā)熱設備；

6、不得將物體直接放入清洗槽中清洗，如有異物落入槽底應及時(shí)取出；

7、每周要對清洗機進(jìn)行潔凈，這樣可以提高超聲波清洗的壽命；

8、清洗劑的更換周期：用戶(hù)根據工件的清洗工件量及清洗液的干凈程度來(lái)決定；

9、不可將液體濺濕到加熱器；

10、更換清洗液時(shí)，應關(guān)閉噴淋泵，停止加熱，清洗液溫降至常溫后進(jìn)行；

11、各清洗槽內沉積物過(guò)多時(shí)應及時(shí)放液沖洗清除；

12、在清洗槽注滿(mǎn)清洗液的情況下應盡量避免推動(dòng)或搬移清洗機；

13、下班或不使用時(shí)，請關(guān)閉所有加熱，水泵及超聲波。若是長(cháng)時(shí)間停止使用清洗機，請將電氣控制柜內的總電源開(kāi)關(guān)斷開(kāi)。